首页> 中国专利> 使用划线及折断工艺对光学器件进行晶片级封装的方法

使用划线及折断工艺对光学器件进行晶片级封装的方法

摘要

一种多层集成光学和电路装置具有包括至少一个集成电路芯片的第一衬底(101),所述集成电路芯片包括单元区域(107)和周边区域(106)。优选地,周边区域具有包括具有一个或多个接合焊盘(115)的接合焊盘区域(109)和围绕所述一个或多个接合焊盘(115)中各个接合焊盘的抗粘着区域(112)。该装置具有耦合到第一衬底(101)的第二衬底(114),第二衬底上带有至少一个或多个偏转器件(103)。将第一衬底(101)上至少一个或多个接合焊盘(115)暴露。该装置具有透明部件(201),透明部件覆盖于第二衬底(114)上方并同时形成空腔区域以形成夹层结构,空腔区域允许所述一个或多个偏转器件(103)在部分空腔区域中运动,夹层结构包括至少部分第一衬底(101)、部分第二衬底(114)、以及部分透明部件(201)。使所述一个或多个接合焊盘(115)以及抗粘着区域(112)暴露,而将所述一个或多个偏转器件(103)保持在所述的部分空腔区域中。

著录项

  • 公开/公告号CN100524637C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-08-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 明锐有限公司;

    申请/专利号CN200580042247.9

  • 发明设计人 杨晓;陈东敏;菲利普·陈;

    申请日2005-12-05

  • 分类号

  • 代理机构北京东方亿思知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人柳春雷

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/30 授权公告日:20090805 终止日期:20181205 申请日:20051205

    专利权的终止

  • 2009-08-05

    授权

    授权

  • 2009-08-05

    授权

    授权

  • 2008-02-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-02-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-11-14

    公开

    公开

  • 2007-11-14

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号