具有高灵敏度的用于硅微电容传声器的芯片及其制备方法

摘要

本发明涉及一种用于硅微电容传声器中的芯片及其制备方法。该芯片包括一n-型硅基片，在其正面扩散硼形成p+型搀杂层，在该层上面沉积二氧化硅、刻蚀成隔离层，在其上附着一振动膜层，振动膜层之上沉积金属铝膜，并光刻、腐蚀成圆形铝膜和方形铝电极；在硅基片的背面有一层氮化硅保护膜，从硅基片的底面腐蚀出一梯形缺口，该梯形缺口的深度至p+型搀杂层，并垂直于p+型搀杂层地方向上腐蚀出声学孔形成穿孔背板，穿孔背板与氮化硅做的振动膜层之间为空气隙。本发明采用的工艺方法，制成圆形结构的气隙层、振动膜和圆环形隔离层，同时在振动膜边缘上布有均匀的圆形微穿孔，减小了振动膜的应力，大大提高了振动膜的灵敏度，避免了时效的破裂。