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改善化学机械研磨终点检测及检测前道工艺的方法

摘要

本发明公开了一种改善化学机械研磨终点检测及检测前道工艺的方法,设定正确的检知时间范围,一旦检知时间超过设定范围,即时间小于设定的下限或大于等于设定的上限,机台报警并停止研磨,进行检测处理。本发明能够实时检测到产品的终点,及时发现前道非正常工艺以及机台终点检测硬件(设备)异常的问题,减少异常产品的产生。本发明不仅可以适用于利用光学原理的终点检测方法,还可以适用于温度变化原理,电流强度变化原理的终点检测方法。

著录项

  • 公开/公告号CN100473499C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-04-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹NEC电子有限公司;

    申请/专利号CN200610030313.7

  • 发明设计人 王海军;谢煊;程晓华;杨欣;

    申请日2006-08-23

  • 分类号B24B49/10(20060101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人顾继光

  • 地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-01-08

    专利权的转移 IPC(主分类):B24B 49/10 变更前: 变更后: 登记生效日:20131216 申请日:20060823

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-04-01

    授权

    授权

  • 2008-04-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-02-27

    公开

    公开

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