公开/公告号CN100473499C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-04-01
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华虹NEC电子有限公司;
申请/专利号CN200610030313.7
申请日2006-08-23
分类号B24B49/10(20060101);
代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;
代理人顾继光
地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
入库时间 2022-08-23 09:02:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-01-08
专利权的转移 IPC(主分类):B24B 49/10 变更前: 变更后: 登记生效日:20131216 申请日:20060823
专利申请权、专利权的转移
2009-04-01
授权
授权
2008-04-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-02-27
公开
公开
机译: 工序的终点检测方法,终点检测装置及记录介质,化学机械研磨装置
机译: 应用共振现象的终点检测方法,装有终点检测设备的终点检测设备,化学机械抛光设备以及由化学机械抛光设备制造的半导体设备
机译: 工艺的终点检测方法,终点检测装置和记录介质以及化学机械抛光装置