基于等离子波的纳米光刻光学装置

摘要

等离子波的纳米光刻光学装置，由反射镜(1)和(6)、均匀器(2)、滤光片(3)、HG灯光源(4)、椭球反射镜(5)和透镜组(7)组成的均匀照明系统照明金属掩模(8)，使紧接触放置硅片(10)上的抗蚀剂涂层(9)感光，HG灯光源(4)是使用可见光波段长波长光，在均匀照明位置放置的掩模是单层或多层金属掩模(8)，它与安放在其下方的抗蚀剂涂层(9)之间为无间隙紧接触，或被抽真空。本发明是用HG灯光源发出的G线436nm长波长光，照明金属掩模，激发其金属掩模表面等离子体，形成等离子表面波传播，穿过金属掩模出射小发散角光用于光刻，不受衍射极限的限制，也不需要复杂昂贵的极短波长光源与激光，就可制作出纳米量级的任意高分辨率图形。