公开/公告号CN100494510C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-06-03
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉理工大学;
申请/专利号CN200710051244.2
申请日2007-01-11
分类号C30B29/04(20060101);C30B23/08(20060101);C23C16/24(20060101);C23C16/513(20060101);
代理机构42102 湖北武汉永嘉专利代理有限公司;
代理人王守仁
地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号武汉理工大学科研处
入库时间 2022-08-23 09:02:14
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-03-02
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C30B 29/04 授权公告日:20090603 终止日期:20150111 申请日:20070111
专利权的终止
2009-06-03
授权
授权
2007-10-24
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-08-29
公开
公开
机译: 通过微波等离子体增强化学气相沉积来制造合成金刚石材料的方法,该微波等离子体来自微波发生器和与生长表面积相对设置的进气口
机译: 大型低压等离子体的金刚石型碳膜-离子。 (大规模,低压等离子-金刚石金刚石碳膜的沉积)
机译: 微波等离子体产生方法,微波等离子体产生装置以及使用该装置制造金刚石薄膜的方法