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微波等离子低温合成金刚石膜的方法

摘要

本发明是一种微波等离子低温合成金刚石膜的方法,其步骤包括:向微波等离子合成腔中充入Ar和H2;在600~750W的微波功率和900~1100Pa的气压下,气体被电离形成等离子体;待等离子体稳定后,向等离子腔中充入CH4,即可在未增加外加磁场的情况下实现金刚石纳米膜的沉积。本发明提供的微波等离子低温合成金刚石膜的方法,具有工艺简单、容易实施、沉积速率快等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN100494510C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-06-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉理工大学;

    申请/专利号CN200710051244.2

  • 发明设计人 周建;王琳;刘桂珍;欧阳世翕;

    申请日2007-01-11

  • 分类号C30B29/04(20060101);C30B23/08(20060101);C23C16/24(20060101);C23C16/513(20060101);

  • 代理机构42102 湖北武汉永嘉专利代理有限公司;

  • 代理人王守仁

  • 地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号武汉理工大学科研处

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-03-02

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C30B 29/04 授权公告日:20090603 终止日期:20150111 申请日:20070111

    专利权的终止

  • 2009-06-03

    授权

    授权

  • 2007-10-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-29

    公开

    公开

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