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一种底部填充胶的填充方法

摘要

本发明属于半导体封装技术领域,具体涉及一种底部填充胶的填充方法。该方法包括向底部填充胶中加入磁性材料,形成复合填充胶;在填充过程中,外加磁场带动磁性材料并进而带动所述复合填充胶完成填充过程;该方法通过外加磁场带动磁性材料,能够给予底部填充胶持续的吸引力,使底部填充胶的运动速度大大增加,减少了大尺寸芯片不完全填充的问题,大大缩短了填充时间,提高了生产效率。

著录项

  • 公开/公告号CN110729205B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海先方半导体有限公司;

    申请/专利号CN201910871497.7

  • 发明设计人 陈立军;徐友志;曹立强;

    申请日2019-09-16

  • 分类号H01L21/56(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构11250 北京三聚阳光知识产权代理有限公司;

  • 代理人李静

  • 地址 200131 上海市浦东新区自由贸易试验区创新西路778号

  • 入库时间 2022-08-23 12:50:55

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