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用于P型晶体硅太阳能电池硼扩散背钝化工艺

摘要

本发明公开了一种用于P型晶体硅太阳能电池硼扩散背钝化工艺,主要包括以下步骤:利用硼扩散工艺,以液态BBr3作为扩散硼源,将硅片放置于扩散炉中,经升温,氧化后,对所述硅片依次进行三步扩散和三次推进处理,各次推进在相应扩散后进行,最终经氧化,降温后完成背钝化过程。本发明所述用于P型晶体硅太阳能电池硼扩散背钝化工艺,可以有效减少电池背面光生少数载流子的复合,降低复合速率,使钝化后的效果更好。同时,改善了硅片方阻的均匀性,降低了方阻方差,提高了开路电压以及转换效率,改善了转换效率的波动性。

著录项

  • 公开/公告号CN109860312B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京捷宸阳光科技发展有限公司;

    申请/专利号CN201811428190.1

  • 发明设计人 房强;张华灿;王军;赵钊;韩传龙;

    申请日2018-11-27

  • 分类号H01L31/0216(20140101);H01L31/18(20060101);H01L21/228(20060101);

  • 代理机构11369 北京远大卓悦知识产权代理有限公司;

  • 代理人史霞

  • 地址 101102 北京市通州区中关村科技园通州园金桥科技产业基地景盛南四街19号

  • 入库时间 2022-08-23 12:39:12

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