首页> 中国专利> 用于解耦合光致抗蚀剂的扩散和溶解性切换机制的手段

用于解耦合光致抗蚀剂的扩散和溶解性切换机制的手段

摘要

本发明的实施例包括光致抗蚀剂材料和图案化光致抗蚀剂材料的方法。在实施例中,光致抗蚀剂材料包括多个分子玻璃(MG)。在实施例中,光致抗蚀剂材料的玻璃转变温度Tg小于对来自MG的阻断基团去阻断所需的活化温度。实施例包括图案化光致抗蚀剂材料的方法,所述方法包括利用紫外辐射来曝光光致抗蚀剂材料。所述方法还可以包括:在第一温度处执行第一曝光后烘焙,其中所述第一温度小于对来自MG的阻断基团去阻断所需的活化温度,以及在第二温度处执行第二曝光后烘焙,所述第二温度大约等于或大于对来自MG的阻断基团去阻断所需的活化温度。

著录项

  • 公开/公告号CN107533288B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN201580079314.8

  • 申请日2015-05-28

  • 分类号G03F7/004(20060101);H01L21/027(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人李雪娜;郑冀之

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 12:38:19

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号