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图案形成结构及形成方法、器件及电光学装置、电子仪器

摘要

本发明通过在形成图案时使微细图案和其它图案的各自高度相同,从而提供在含有图案的区域的上面形成平坦区域的贮格围堰结构体、图案形成方法及电光学装置、电子仪器。该发明是设有与由功能液形成的图案对应的凹部(35)的隔壁结构体,其特征在于,具备:与第1图案对应而设的第1凹部(55)、与第1图案连接而且与比第1图案宽度窄的第2图案对应而设的第2凹部(56)和在第1凹部(55)至少设1个以上的凸部(35)。

著录项

  • 公开/公告号CN100477881C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-04-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 精工爱普生株式会社;

    申请/专利号CN200510107139.7

  • 发明设计人 平井利充;牛山敏宽;

    申请日2005-09-28

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人李香兰

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-11-11

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05K 1/02 授权公告日:20090408 终止日期:20140928 申请日:20050928

    专利权的终止

  • 2009-04-08

    授权

    授权

  • 2006-05-31

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-04-05

    公开

    公开

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