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PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FORMING APPARATUS, DEVICE FABRICATING METHOD, ELECTRONIC OPTICAL DEVICE, ELECTRONIC INSTRUMENT AND METHOD FOR FABRICATING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE TO FORM LAYER PATTERN OF DESIRED PATTERN SHAPE

机译:图案形成方法,图案形成装置,设备制造方法,电子光学设备,电子仪器以及用于制造有源矩阵基质以形成期望图案形状的层图案的方法

摘要

PURPOSE: A pattern forming method is provided to form a layer pattern of a desired pattern shape by smoothly disposing liquid drops in an end of a groove part between banks. CONSTITUTION: A liquid drop(30) of functional liquid is disposed on a substrate to form a layer pattern(33). A bank(B) of a predetermined pattern shape is formed on the substrate. A liquid drop is disposed in an end(36,38) of a groove part(34) between the banks. A liquid drop is disposed in a position except the end of the groove part.
机译:用途:提供一种图案形成方法,以通过将液滴平稳地布置在堤之间的凹槽部分的端部中来形成期望的图案形状的层图案。组成:功能性液体的液滴(30)设置在基板上以形成层图案(33)。预定图案形状的堤(B)形成在基板上。液滴设置在堤之间的凹槽部分(34)的端部(36,38)中。液滴设置在除槽部的端部以外的位置。

著录项

  • 公开/公告号KR20040099135A

    专利类型

  • 公开/公告日2004-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SEIKO EPSON CORPORATION;

    申请/专利号KR20040033687

  • 发明设计人 HASEI HIRONORI;

    申请日2004-05-13

  • 分类号H01L29/786;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 22:06:28

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