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溅射靶材、溅射靶、溅射靶用铝板及其制造方法

摘要

溅射靶材(2)由纯度为99.999质量%以上的铝和不可避免的杂质构成。在将板表面(21)的平均晶粒直径设为Ds[μm],将板厚的1/4的深度(22)处的平均晶粒直径设为Dq[μm],并将板厚的1/2的深度(23)处的平均晶粒直径设为Dc[μm]时,满足下述式,并且平均晶粒直径在板厚方向上连续地变化,Ds≤230Dq≤280Dc≤3001.2≤Dq/Ds1.3≤Dc/Ds

著录项

  • 公开/公告号CN110709532B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社UACJ;住友化学株式会社;

    申请/专利号CN201880035775.9

  • 发明设计人 竹田博贵;藤田昌宏;

    申请日2018-06-21

  • 分类号C23C14/34(20060101);C22F1/04(20060101);C22F1/00(20060101);

  • 代理机构11444 北京汇思诚业知识产权代理有限公司;

  • 代理人李海龙;龚敏

  • 地址 日本国东京都千代田区大手町一丁目7番2号

  • 入库时间 2022-08-23 12:08:28

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