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溅射靶材、溅射靶、溅射靶用铝板及其制造方法

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摘要

溅射靶材(2)由纯度为99.999质量％以上的铝和不可避免的杂质构成。在将板表面(21)的平均晶粒直径设为D

1. 溅射靶材、溅射靶、溅射靶用铝板及其制造方法 [P] . 中国专利： CN110709532B . 2021.07.16
2. 溅射靶材、溅射靶、溅射靶用铝板及其制造方法 [P] . 中国专利： CN110709532A . 2020-01-17
3. SPUTTERING-TARGET MATERIAL, SPUTTERING TARGET, SPUTTERING-TARGET ALUMINUM PLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME [P] . 美国专利： US2020199739A1 . 2020-06-25

机译：溅射靶材，溅射靶材，溅射靶材铝板及其制造方法
4. SPUTTERING TARGET MATERIAL, SPUTTERING TARGET, ALUMINUM SHEET FOR SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR [P] . 世界知识产权组织专利： WO2018235889A1 . 2018-12-27

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5. Sputtering target material, sputtering target, aluminum plate for sputtering target, and its manufacturing method [P] . 韩国专利： KR20200020697A . 2020-02-26

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