自对准栅结构及其制作方法、自对准栅宽结构及其制作方法

摘要

本发明提供了一种自对准栅结构的制作方法，包括如下步骤：1)在外延层的上表面涂覆第一光刻胶；2)通过第一光罩、曝光显影和蚀刻在外延层的上表面形成栅凹槽；3)通过回流工艺将蚀刻后剩余的第一光刻胶回流至栅凹槽中，形成T型栅宽；4)在第一光刻胶的上表面涂覆第二光刻胶，通过第二光罩、曝光显影形成T型栅帽的形貌，在此基础上蚀刻后形成T型栅形貌，T型栅帽是连通至T型栅宽的；5)在T型栅的形貌上进行金属蒸镀后，再剥离第一光刻胶和第二光刻胶，形成T型栅结构。本发明提供的自对准栅结构及其制作方法，栅结构和外延电阻之间具有极高的对准性。