公开/公告号CN110117400B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-22
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉高正新材料科技有限公司;
申请/专利号CN201910299959.2
申请日2019-04-15
分类号C08L27/16(20060101);C08L33/12(20060101);C08L53/02(20060101);C08L51/04(20060101);C08L33/04(20060101);C08K3/22(20060101);C08J5/18(20060101);H01L31/049(20140101);
代理机构11212 北京轻创知识产权代理有限公司;
代理人杨立;杨彩兰
地址 437300 湖北省咸宁市赤壁市高新区中伙光谷产业园
入库时间 2022-08-23 12:00:17
机译: 所述透明导电膜,在所述透明导电膜的制备方法的一侧或两侧为空的透明膜背衬材料
机译: 用于平面指示元件的供体基板和有机电致发光组件的制备方法为零背衬材料膜,
机译: 由膜形成得到的膜和制备方法无效。特征成分和所述成分包含新的混合颗粒和所述颗粒,其指定二氧化硅和聚合物作为背衬材料。