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一种栅控双极-场效应复合氮化镓垂直双扩散金属氧化物半导体晶体管

摘要

本发明公开一种栅控双极‑场效应复合氮化镓垂直双扩散金属氧化物半导体晶体管。该器件通过采用基区与栅极相连的电极连接方式,代替传统的氮化镓VDMOS中基区与源极短接的电极连接方式。该器件工作在关态时,器件的耐压特性与传统的氮化镓VDMOS的一致。该器件工作在开态时,由于栅极与基区相连,当在栅极接入栅压时,基区也接入一定电压,使得器件寄生的双极型晶体管开启,提供了一个新的导电通道;与此同时,器件的沟道同样能正常开启进行导电。该器件与传统的氮化镓VDMOS器件相比,在保证器件具有相同击穿电压的同时,大幅度提高了器件的导通电流,极大改善了氮化镓晶体管的导通性能。

著录项

  • 公开/公告号CN110534558B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201910750433.1

  • 申请日2019-08-14

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L29/20(20060101);H01L29/41(20060101);H01L29/78(20060101);

  • 代理机构61211 西安智邦专利商标代理有限公司;

  • 代理人胡乐

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2022-08-23 11:59:03

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