公开/公告号CN110484896B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-28
原文格式PDF
申请/专利权人 西安唐晶量子科技有限公司;
申请/专利号CN201910836752.4
申请日2019-09-05
分类号C23C16/455(20060101);C23C16/52(20060101);H01S5/183(20060101);
代理机构
代理人
地址 710119 陕西省西安市高新区上林苑一路15号B栋一层B-104室
入库时间 2022-08-23 11:51:34
机译: 具有提高的膜厚均匀性的外延镜筒基座
机译: 使用低压MOCVD的外延膜生长方法
机译: 具有提高玻璃基板上沉积层的膜厚分布均匀性的真空膜的方法和真空膜形成装置