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覆晶芯片取裸片的制备方法及失效分析方法

摘要

本发明提供一种覆晶芯片取裸片的制备方法及失效分析方法,其中,本发明覆晶芯片取裸片的制备方法包括:提供覆晶芯片,覆晶芯片包括裸片及封装于裸片的外部的封装结构,裸片的正面具有锡球;研磨封装结构,直至裸露出裸片正面的锡球;采用淋酸蚀刻的方式蚀刻裸片的正面,去除裸片正面的锡球、残留的封装结构,达到裸片正面完全开封以得到裸片样品。本发明覆晶芯片取裸片的制备方法不需要用酸煮沸去除封装结构,而是研磨掉封装结构的一部分,再使用淋酸蚀刻的方式去除锡球和裸片正面的封装结构,从而获得裸片,不会造成崩边或裂痕,使用此裸片进行其他实验时,可排除人为因素对裸片的影响,提高了实验准确性,具有优异的技术效果。

著录项

  • 公开/公告号CN108493123B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏试宜特(上海)检测技术有限公司;

    申请/专利号CN201810319803.1

  • 发明设计人 潘健成;陈清陇;

    申请日2018-04-11

  • 分类号H01L21/66(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构31229 上海唯源专利代理有限公司;

  • 代理人曾耀先

  • 地址 201100 上海市闵行区宜山路1618号8幢C101室

  • 入库时间 2022-08-23 11:50:50

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