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聚合物、正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法

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本发明目的在于提供一种聚合物，其在作为主链切断型的正型抗蚀剂使用时，能够充分地抑制抗蚀剂图案的塌陷的发生、良好地形成清晰的抗蚀剂图案、进而提高敏感度。本发明的聚合物具有由下述通式(I)表示的单体单元(A)和由下述通式(II)表示的单体单元(B)。[式(I)中，R¹为氟原子数为5以上且7以下的有机基团。式(II)中，R²为氢原子、氟原子、非取代的烷基或氟原子取代的烷基，R³为氢原子、非取代的烷基或氟原子取代的烷基，p和q为0以上且5以下的整数，p+q＝5]

著录项

公开/公告号CN110050005B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-14

原文格式PDF
申请/专利权人日本瑞翁株式会社;
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申请/专利号CN201780075900.4
发明设计人星野学;
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申请日2017-12-15
分类号C08F220/22(20060101);C08F212/06(20060101);G03F7/039(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11413 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人赵曦;刘继富
地址日本东京
入库时间 2022-08-23 11:47:51

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