Electron beam lithography; Polymer resist; Positive tone resist; Molecular weight; Exposure characteristics; Developer; Line width roughness (LWR);
机译:显影剂分子大小对电子束抗蚀剂溶解前沿粗糙度的影响
机译:电子束直径,电子能量,抗蚀剂厚度和抗蚀剂类型的依赖关系,通过使用蒙特卡洛模拟在EB光刻中形成纳米点阵。
机译:尺寸排阻色谱法协同测定聚合物分子量平均值的报告V.分子量平均值对检测器和流动相的依赖性
机译:显影剂分子大小依赖于各种分子量的聚合物型电子束的图案形成
机译:悬浮聚合生产的聚苯乙烯珠粒尺寸对分子量和分子量分布的影响
机译:海藻糖糖醇抗性可通过电子束光刻直接写入蛋白质图案
机译:分子束外延生长的p型GaInP中少数电子迁移率的掺杂依赖性和各向异性
机译:电子束抗蚀剂灵敏度的分子量依赖性