机译:具有酸放大侧链作为正型光刻胶的聚合物
机译:聚[(顺式-3-(乙磺酰氧基)-2-甲基丙烯酸戊酯)-共-(甲基丙烯酸叔丁酯)]
机译:基于OLED结构中的像素限定层(PDL)的聚有机硅筛阳性的正型光致抗蚀剂的发展
机译:用于157-nm光致抗蚀剂的新型主链氟化聚合物 - (PPT)
机译:聚合物系统的原位和在线表征:聚合物复合材料的固化监控和化学放大光刻胶的光谱研究
机译:优化的等离子体辅助双层光致抗蚀剂制造方案用于在多孔聚合物膜上高分辨率地细微制造薄膜金属电极
机译:有机和无机光学材料的特殊用品。使用光灭绝形成侧氨基的正型光致抗蚀剂。共聚单体对光致抗蚀剂溶解性改变和敏感性的影响。
机译:有机主链NLO-聚合物。基于烷基和苄基作为侧链的梳状NLO聚合物。 NLO聚合物的表面改性。 (重新公布新的可用性信息)