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一种共振隧穿二极管及其制作方法

摘要

本发明提供一种共振隧穿二极管及其制作方法。所述共振隧穿二极管包括依次设置的n型GaN衬底层、n+GaN集电极欧姆接触层、第一GaN隔离层、第一Al、N、Ga、N分层结构混合势垒层、GaN量子阱层、第二Al、N、Ga分层结构混合势垒层、第二GaN隔离层、n+GaN发射极欧姆接触层、环形电极、圆形电极和钝化层;所述Al、N、Ga分层结构混合势垒层包括Al层、N层和Ga层。本发明能够消除随机合金AlGaN势垒中Al组分分布不均造成的漏电现象。

著录项

  • 公开/公告号CN110085682B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201910365950.7

  • 申请日2019-05-05

  • 分类号H01L29/88(20060101);H01L21/328(20060101);

  • 代理机构61230 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张捷

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2022-08-23 11:45:20

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