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一种沟槽栅电荷储存型绝缘栅双极型晶体管及其制造方法

摘要

一种沟槽栅电荷储存型绝缘栅双极型晶体管及其制造方法,属于半导体功率器件领域。本发明克服了传统结构中N型电荷存储层的不利影响,获得更加优异的耐压性能,相比传统方式而言,解决了采用加深沟槽栅深度和减小元胞宽度致使器件的开关性能、导通压降和开关损耗折中特性以及可靠性受损的问题。本发明通过在P型体区上引入串联二极管结构,使得MOSFET的沟道电压拑位在很小的值,从而减小了器件饱和电流密度,改善了器件的短路安全工作区;通过在沟槽栅结构中引入分裂电极和分裂电极介质层,在保证了器件阈值电压和开关速度的同时提高了器件开关性能;浮空P型体区改善了器件正向导通压降与开关损耗的折中特性。另外,本发明提出CSTBT器件的制作工艺与传统制作工艺兼容。

著录项

  • 公开/公告号CN107799582B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201710986479.4

  • 申请日2017-10-20

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L29/423(20060101);H01L29/739(20060101);H01L21/331(20060101);

  • 代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人葛启函

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 11:35:38

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