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光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法

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摘要

本发明提供光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法，能够尽量减小清洗工序中产生异物的可能性，抑制光掩模坯体、光掩模制造工序中产生瑕疵的风险。一种用于形成转印用图案而成为光掩模的由透明材料构成的光掩模基板，具有用于形成转印用图案的第1主表面、位于反面侧的第2主表面、以及垂直于这些主表面的端面。在第1主表面的端部附近设有倾斜区域，该倾斜区域具有第1倒角面和设在第1主表面与第1倒角面之间的第1曲面。第1倒角面相对于第1主表面的倾斜角为50度以下且具有平面。第1曲面的曲率半径r1(mm)满足0.3

著录项

公开/公告号CN106933026B

专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-29

原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA株式会社;
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申请/专利号CN201611178018.6
发明设计人山口昇;
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申请日2016-12-19
分类号G03F1/60(20120101);G03F1/50(20120101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人李辉;黄纶伟
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 11:26:50

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