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一种降低氮化镓高电子迁移率场效应管界面热阻的外延生长方法

摘要

本发明涉及一种降低氮化镓高电子迁移率场效应管界面热阻的外延生长方法,外延材料的生长采用金属有机物化学气相淀积等气相外延生长方法,氮化镓外延片自下而上依次包括衬底、下层氮化铝成核层、上层氮化铝成核层氮化铝成核层、氮化镓层过渡层、氮化镓层缓冲层、势垒层和帽层,下层氮化铝成核层和上层氮化铝成核层生长过程使用的载气分别为氢气和氮气,氮化镓层过渡层生长过程中使用的载气为氮气,氮化镓层缓冲层生长过程使用的载气为氢气或者氢气和氮气的混合气。本发明通过载气转换工艺,降低氮化铝成核层和氮化镓层内的缺陷密度,及改善氮化铝成核层、氮化镓层界面的质量,有效降低了氮化镓高电子迁移率场效应管的界面热阻。

著录项

  • 公开/公告号CN110211865B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201910405823.5

  • 发明设计人 李忠辉;彭大青;李传皓;

    申请日2019-05-15

  • 分类号H01L21/02(20060101);

  • 代理机构32200 南京经纬专利商标代理有限公司;

  • 代理人孙淑君

  • 地址 210016 江苏省南京市秦淮区中山东路524号

  • 入库时间 2022-08-23 11:25:19

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