利用光子辅助等离子体工艺改善线边缘粗糙度

摘要

本发明涉及利用光子辅助等离子体工艺改善线边缘粗糙度。提供了一种用于处理具有工艺层的衬底的光子辅助等离子体处理方法。工艺气体流入室。所述工艺气体形成等离子体。所述工艺层暴露于所述等离子体。用波长介于200nm和1微米之间的光照射所述工艺层，同时将所述衬底暴露于所述等离子体。