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Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI
Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI
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1.
Study of selective 'chemical downstream plasma etching' of silicon nitride and silicon oxide for advanced patterning applications
机译:
氮化硅和氧化硅的选择性“化学下游等离子体蚀刻”,用于先进的图案化应用
作者:
Emilie PREVOST
;
Gilles Cunge
;
Come De-Buttet
;
Sebastien Lagrasta
;
Laurent Vallier
;
Camille Petit-Etienne
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Chemical downstream plasma;
chemical dry etching;
NF_3/N_2/O_2;
selective etching;
slicon-nitride silicon-oxide selectivity;
2.
Self-Aligned Blocking Integration Demonstration for Critical sub 40nm pitch Mx Level Patterning
机译:
临界子40nm间距MX电平图案的自我对齐的集成演示
作者:
Angelique Raley
;
Nihar Mohanty
;
Xinghua Sun
;
Richard A. Farrell
;
Jeffrey T. Smith
;
Akiteru Ko
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
3.
Self-Aligned Quadruple Patterning using Spacer on Spacer integration optimization for N5
机译:
使用垫片对N5的间隔集成优化的自我对齐的四倍图案
作者:
Sophie Thibaut
;
Angelique Raley
;
Nihar Mohanty
;
Subhadeep Kal
;
Eric Liu
;
Akiteru Ko
;
David OMeara
;
Kandabara Tapily
;
Peter Biolsi
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
4.
Guiding Gate-Etch Process Development Using 3D Surface Reaction Modeling for 7 nm and Beyond
机译:
使用3D表面反应建模的引导栅极蚀刻工艺开发7纳米及以后
作者:
Derren Dunn
;
John R. Sporre
;
Vaibhav Deshpande
;
Mohamed Oulmane
;
Ronald Gull
;
Peter Ventzek
;
Alok Ranjan
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
7nm node;
polysilicon gate etch;
plasma etch;
fin erosion;
5.
Overview of several applications of Chemical Downstream Etching CDE for IC manufacturing. Advantages and drawbacks versus WET processes
机译:
化学下游蚀刻CDE用于IC制造的综述概述。优点和缺点与湿过程
作者:
Come de Buttet
;
Emilie Prevost
;
Alain Campo
;
Phillipe Garnier
;
Stephane Zoll
;
Laurent Vallier
;
Gilles Cunge
;
Patrick Maury
;
Thomas Massin
;
Sonarith Chhun
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Si_3N_4 etching;
wet etching;
CDE;
Chemical downstream etching;
CMOS;
6.
Nanolmprint, DSA and Multi-Beam Lithography: Patterning Technologies with New Integration Challenges
机译:
Nanolmprint,DSA和多光束光刻:图案化技术具有新的整合挑战
作者:
S. Landis
;
H. Teyssedre
;
G. Claveau
;
I. Servin
;
F. Delachat
;
M.L. Pourtreau
;
A. Gharbi
;
P. Pimenta Barros
;
R. Tiron
;
L. Nouri
;
N. Posseme
;
M. May
;
P. Brianceau
;
S. Barnola
;
Y. Blancquaert
;
J. Pradelles
;
P. Essomba
;
A. Bemadac
;
B. Dalzotto
;
S. Bos
;
M. Argoud
;
G. Chamiot-Maitral
;
A. Sarrazin
;
C. Tallaron
;
C. Lapeyre
;
L. Pain
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
7.
The Line Roughness Improvement with Plasma Coating and Cure Treatment for 193nm Lithography and Beyond
机译:
用血浆涂层和固化处理193nm光刻和超越的线粗糙度改善
作者:
Erhu Zheng
;
Yi Huang
;
Haiyang Zhang
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
SaMP;
LWR;
LER;
plasma coating;
plasma curing;
optimal design experiment;
8.
Plasma Processing of III-V Materials for Energy Efficient Electronics Applications
机译:
用于节能电子应用III-V材料的等离子体处理
作者:
Iain Thayne
;
Xu Li
;
David Millar
;
Yen-Chun Fu
;
Uthayasankararan Peralagu
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Compound semiconductors;
atomic layer etching;
plasma-based surface passivation;
9.
Silicon Photonics and challenges for fabrication
机译:
硅光子和制造挑战
作者:
N.B. Feilchenfeld
;
K. Nummy
;
T. Barwicz
;
D. Gill
;
E. Kiewra
;
R. Leidy
;
J.S. Orcutt
;
J. Rosenberg
;
A.D. Stricker
;
C. Whiting
;
J. Ayala
;
B. Cucci
;
D. Dang
;
T. Doan
;
M. Ghosal
;
M. Khater
;
K. McLean
;
B. Porth
;
Z. Sowinski
;
C. Willets
;
C. Xiong
;
C. Yu
;
S. Yum
;
K. Giewont
;
W.M.J. Green
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Silicon photonics;
monolithic;
300mm;
200mm;
optical proximity correction;
10.
Directed self-assembly patterning strategies for phase change memory applications
机译:
针对相变内存应用的定向自组装图案策略
作者:
Robert L. Bruce
;
Gloria Fraczak
;
John M. Papalia
;
HsinYu Tsai
;
Matt BrightSky
;
Hiroyuki Miyazoe
;
Yu Zhu
;
Sebastian U. Engelmann
;
Hsiang-Lan Lung
;
Takeshi Masuda
;
Koukou Suu
;
Chi-Chun Liu
;
Hao Tang
;
John C. Arnold
;
Nelson Felix
;
Chung H. Lam
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
storage class memory;
phase change memory;
directed self-assembly;
atomic layer deposition;
plasma etch;
DSA etch;
PCM etch;
PCM deposition;
11.
Reducing Line Edge Roughness in Si and SiN Through Plasma Etch Chemistry Optimization for Photonic Waveguide Applications
机译:
通过对光子波导应用的等离子体蚀刻化学优化减少Si和SiN中的线边缘粗糙度
作者:
Nathan Marchack
;
Marwan Khater
;
Jason Orcutt
;
Josephine Chang
;
Steven Holmes
;
Tymon Barwicz
;
Swetha Kamlapurkar
;
William Green
;
Sebastian Engelmann
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Plasma etching;
silicon;
nitride;
photonics;
waveguide;
sensors;
LER;
LWR;
12.
Self-aligned block technology: a step towards further scaling
机译:
自对准块技术:进一步缩放的一步
作者:
Frederic Lazzarino
;
Nihar Mohanty
;
Yannick Feurprier
;
Lior Huli
;
Vinh Luong
;
Marc Demand
;
Stefan Decoster
;
Victor Vega Gonzalez
;
Julien Ryckaert
;
Ryan Ryoung Han Kim
;
Arindam Mallik
;
Philippe Leray
;
Chris Wilson
;
Juergen Boemmels
;
Kaushik Kumar
;
Kathleen Nafus
;
Anton deVilliers
;
Jeffrey Smith
;
Carlos Fonseca
;
Julie Bannister
;
Steven Scheer
;
Zsolt Tokei
;
Daniele Piumi
;
Kathy Barla
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Self-Aligned Block (SAB);
N7 technology node;
N5 technology node;
planarization;
filling;
spin-on metal-oxide material;
spin-on Si-based material;
Cost of Ownership (CoO);
13.
Co-optimization of lithographic and patterning processes for improved EPE performance
机译:
改进EPE性能的光刻和图案化过程的共同优化
作者:
Mark J. Maslow
;
Vadim Timoshkov
;
Ton Kiers
;
Tae Kwon Jee
;
Peter de Loijer
;
Shinya Morikita
;
Marc Demand
;
Andrew W. Metz
;
Soichiro Okada
;
Kaushik A. Kumar
;
Serge Biesemans
;
Hidetami Yaegashi
;
Paolo Di Lorenzo
;
Joost P. Bekaert
;
Ming Mao
;
Christophe Beral
;
Stephane Lariviere
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Spacer;
SAQP;
EPE;
EUV;
Block;
Local CDU;
14.
Design and Fabrication of Resonator-QWIP for SF6 Gas Sensor Application
机译:
SF6气体传感器应用的谐振器-QWIP的设计与制造
作者:
J. Sun
;
K. K. Choi
;
E. A. DeCuir
;
K. A. Olver
;
R. X. Fu
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
resonance;
inductively coupled plasma (ICP) etching;
quantum efficiency;
QWIP;
GaAs substrate removal;
ASML stepper;
SF6 gas;
FPA;
15.
Spin on metal oxide materials for N7 and beyond patterning applications
机译:
用于N7及超出图案化应用的金属氧化物材料上的旋转
作者:
G. Mannaert
;
E. Altamirano-Sanchez
;
T. Hopf
;
F. Sebaai
;
. C. Lorant
;
C. Petermann
;
S-E Hong
;
S. Mullen
;
E. Wolfer
;
D. Mckenzie
;
H. Yao
;
D. Rahman
;
J-Y Cho
;
M. Padmanaban
;
D. Piumi
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Metal oxide hard masks;
spin coat;
antireflective;
etch selectivity;
lithography;
wet strip;
metal contamination;
SAQP;
cut last;
16.
A method to accelerate creation of plasma etch recipes using physics and Bayesian statistics
机译:
使用物理学和贝叶斯统计加速创建等离子体蚀刻食谱的方法
作者:
Meghali J. Chopra
;
Rahul Verma
;
Austin Lane
;
C.G. Willson
;
Roger T. Bonnecaze
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
RODEo;
plasma etching;
resist;
design of experiment;
factorial design;
17.
Plasma-Assisted Thermal Atomic Layer Etching of Al_2O_3
机译:
Al_2O_3的等离子体辅助热原子层蚀刻
作者:
Andreas Fischer
;
Richard Janek
;
John Boniface
;
Thorsten Lill
;
K.J. Kanarik
;
Yang Pan
;
Vahid Vahedi
;
Richard A. Gottscho
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
18.
Introduction
机译:
介绍
作者:
Sebastian U. Engelmann
;
Richard S. Wise
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
19.
Facile fabrication of Si-based nanostructures
机译:
基于Si的纳米结构的容纳制造
作者:
Lingkuan Meng
;
Jiang Yan
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Nanofabrication technique;
Amorphous silicon;
Si-based nanostructures;
Nanoline;
Nanofin;
Finfet device;
Gate patterning;
20.
Improvement of a block co-polymer (PS-b-PDMS) template etch profile using amorphous carbon layer
机译:
使用非晶碳层改善嵌段共聚物(PS-B-PDMS)模板蚀刻轮廓
作者:
JiSoo Oh
;
Jong Sik Oh
;
DaIn Sung
;
SoonMin Yim
;
SeungWon Song
;
GeunYoung Yeom
会议名称:
《Conference on advanced etch technology for nanopatterning VI》
|
2017年
关键词:
Block co-polymer;
plasma;
etch profile;
PS-b-PDMS;
amorphous carbon;
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