RODEo; plasma etching; resist; design of experiment; factorial design;
机译:贝叶斯统计方法,Brian J.Reich Sujit K. Ghosh,Boca Raton,FL:Chapman和Hall / CRC,2019,硬覆盖。 PP。288.9.96美元。 贝叶斯统计方法贝叶斯统计方法,Brian J.Reich Brian J. Brian J.Reich Reich Sujit K. Ghosh Sujit K. Sujit K. Ghosh Ghosh,Boca Raton,Fl Boca Raton,FL:Chapman和Hall / CRC Chapman和Hall / CRC,2019 2019,硬封面。 PP。288.9.96美元。
机译:开发用于最大掩模蚀刻的过程配方和具有垂直侧壁的最大蚀刻速率,用于深度,高度各向异性电感耦合等离子体(ICP)蚀刻熔融二氧化硅的蚀刻
机译:使用SF_6 / O_2等离子清洁技术减少蚀刻缺陷并优化光刻胶掩膜栅多晶硅蚀刻工艺中的蚀刻配方
机译:一种使用物理和贝叶斯统计数据加速创建等离子蚀刻配方的方法
机译:研究评估硅上等离子蚀刻损伤的方法。
机译:通过有效的逆统计物理方法推断视网膜神经节细胞之间的神经元耦合
机译:经典的统计方法:在面向融合等离子体物理中的应用