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含铋氮化合物的半导体材料和制备方法及全波段光电器件

摘要

本发明涉及含铋氮化合物的半导体材料和制备方法及全波段光电器件,含铋氮化合物的半导体材料组成通式为InN1‑xBix,其中,01‑xBix材料具有闪锌矿结构或纤锌矿结构;含有所述的含铋氮化合物的半导体材料的薄膜材料、量子阱、量子点、超晶格、纳米线或异质结材料;所述InN1‑xBix材料或者异质结材料能够实现氮化物家族从紫外到太赫兹波段的全波段覆盖,制备中红外到太赫兹全波段激光器、探测器等光电器件;本发明的InN1‑xBix材料可采用常规分子束外延、金属有机物化学气相沉积等多种方法进行生长。

著录项

  • 公开/公告号CN107910388B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 超晶科技(北京)有限公司;

    申请/专利号CN201710524019.X

  • 发明设计人 王庶民;芦鹏飞;梁丹;张立瑶;

    申请日2017-06-30

  • 分类号H01L31/0304(20060101);H01S5/343(20060101);

  • 代理机构11472 北京方安思达知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈琳琳;李彪

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路30号方兴大厦906室

  • 入库时间 2022-08-23 11:21:11

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