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用于在真空沉积工艺中保持基板的设备、用于在基板上进行层沉积的系统和用于保持基板的方法

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本公开内容提供了一种用于在真空沉积工艺中保持基板(10)的设备(100)。设备(100)包括：支撑表面(112)；电极布置(120)，所述电极布置(120)具有多个电极(122)，所述电极布置(120)经构造以提供作用在基板(10)和掩模(20)中的至少一者上的吸引力；和控制器(130)，所述控制器(130)经构造以将第一电压极性配置和不同于第一电压极性配置的第二电压极性配置应用到电极布置(120)，其中控制器(130)经构造以在第一电压极性配置与第二电压极性配置之间切换。

著录项

公开/公告号CN108474110B

专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-20

原文格式PDF
申请/专利权人应用材料公司;
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申请/专利号CN201680077022.5
发明设计人沃尔夫冈·布什贝克;安德烈亚斯·洛普;戴特尔·哈斯;海曼斯·古帕拉朱;
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申请日2016-12-12
分类号C23C14/50(20060101);C23C16/458(20060101);H01J37/32(20060101);H01L21/683(20060101);C23C14/04(20060101);C23C16/04(20060101);
代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国;赵静
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 11:17:32

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