Sputtering; Thin copper film; Rotating substrate holder;
机译:磁控溅射在Ge(001)衬底上共沉积Mn和Ge时衬底温度对Mn5Ge3薄膜生长的作用
机译:钼溅射不锈钢基体上电化学沉积铜薄膜的形貌和厚度控制
机译:通过电化学沉积在Mo溅射不锈钢基板上制备的薄铜膜的形态学和厚度控制
机译:溅射沉积的旋转基板保持器,用于薄铜膜的有效生长
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:靶成分和溅射沉积参数对沉积在聚合物基底上的氮化银-坡莫合金柔性薄膜功能性能的影响
机译:使用倾斜溅射靶和未电流基板支架制备W-ALNTHIN膜