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含三苯胺基团Y型二阶非线性光学发色团及其制法和用途

摘要

本发明涉及含三苯胺基团Y型二阶非线性光学发色团,具有以下通式:式中X为氧或者硫原子,R为各种拉电子的受体,如丙二腈基、硫代巴比妥酸基、3-苯基-异噁唑酮基、2-二氰基亚甲基-3-氰基-4,5,5-三甲基-2,5-二氢呋喃基等。本发明通过一系列化学反应,可以三苯胺、三氯氧磷、N,N-二甲基甲酰胺、各种拉电子受体、溴代呋喃甲基三苯基膦或2-甲基噻吩及其它一些试剂为原料,制备含三苯胺基团Y型二阶非线性光学发色团。含三苯胺基团Y型二阶非线性光学发色团作为二阶非线性光学材料可以在远程通讯、数据存储、相位共轭等方面得到实际应用。

著录项

  • 公开/公告号CN100386321C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN200610018852.9

  • 申请日2006-04-21

  • 分类号C07D307/54(20060101);C07D405/14(20060101);C07D413/14(20060101);C09K11/06(20060101);

  • 代理机构42208 武汉天力专利事务所;

  • 代理人程祥;冯卫平

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌珞珈山

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-08-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C07D 307/54 授权公告日:20080507 申请日:20060421

    专利权的终止

  • 2008-05-07

    授权

    授权

  • 2006-10-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-09-13

    公开

    公开

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