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一种10-羟基喜树碱/卟啉类光敏剂复合制剂的制备方法

摘要

一种10‑羟基喜树碱/卟啉类光敏剂复合制剂的制备方法,它涉及一种卟啉类光敏剂复合制剂的制备方法。本发明是要解决现有的卟啉类化合物光敏剂对于抑制癌细胞存活率效果不佳的技术问题。本发明:一、制备二聚L‑谷氨酸;二、制备四聚L‑谷氨酸;三、制备六聚L‑谷氨酸;四、制备六聚谷氨酸键联卟啉二聚物;五、制备10‑羟基喜树碱/卟啉类光敏剂复合制剂。本发明的10‑羟基喜树碱/卟啉类光敏剂复合制剂应用于抑制癌细胞的存活率。本发明的10‑羟基喜树碱/卟啉类光敏剂复合制剂在光照40min的条件下可以使癌细胞的存活存活率降低至10%。

著录项

  • 公开/公告号CN108295258B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN201810242643.5

  • 发明设计人 郭喜明;

    申请日2018-03-22

  • 分类号A61K41/00(20200101);A61K31/4745(20060101);A61K47/64(20170101);A61P35/00(20060101);C07D487/22(20060101);

  • 代理机构23109 哈尔滨市松花江专利商标事务所;

  • 代理人贾泽纯

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2022-08-23 11:12:13

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