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基于台状有源区的固态等离子体PiN二极管及其制备方法

摘要

本发明涉及一种基于台状有源区的固态等离子体PiN二极管及其制备方法。该制备方法包括:(a)选取SOI衬底;(b)刻蚀SOI衬底形成台状有源区;(c)对所述台状有源区四周利用原位掺杂工艺分别淀积P型Si材料和N型Si材料形成P区和N区;(d)在所述台状有源区四周淀积多晶Si材料;(e)在所述多晶Si材料表面制作引线并光刻PAD以形成所述固态等离子体PiN二极管。本发明实施例利用原位掺杂工艺能够制备并提供适用于形成固态等离子天线的高性能基于台状有源区的固态等离子体PiN二极管。

著录项

  • 公开/公告号CN106653867B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201611188578.X

  • 申请日2016-12-20

  • 分类号H01L29/868(20060101);H01L21/329(20060101);

  • 代理机构61230 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人闫家伟

  • 地址 710000 陕西省西安市雁塔区太白南路2号

  • 入库时间 2022-08-23 11:12:04

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