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一种无硒化过程非真空法制备的铜铟镓硒吸收层

摘要

本发明涉及一种无硒化过程非真空法制备的铜铟镓硒吸收层,其特征在于,所述工艺步骤包括:制备铜铟镓硒胶体、铜铟镓硒前驱体薄膜的制备、退火热处理三个步骤。选用氯化铜、硫酸铟、氯化镓、二氧化硒作为Cu源、In源、Ga源、Se源,按照(Cu:In:Ga:Se=1:1.4:0.6:4)的摩尔比配置,选用乙醇作为溶剂同时加入三乙醇胺作为络合剂与粘结剂,在一定温度下搅拌溶解至白色粘稠状液体,取出后挥发陈化,适量的溶解在乙醇中再刮涂或滴涂在衬底上,经一定温度热处理后得到铜铟镓硒吸收层。本发明的铜铟镓硒吸收层,生产工艺简单,环保,无需任何再投料硒化工艺,即可得到平整,结构完善,禁带宽度为1.39 eV的铜铟镓硒薄膜。

著录项

  • 公开/公告号CN109671787B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨理工大学;

    申请/专利号CN201910013617.X

  • 发明设计人 李丽波;翟墨;杜金田;谢明;

    申请日2019-01-08

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路52号

  • 入库时间 2022-08-23 11:10:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-21

    授权

    授权

  • 2019-06-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/032 申请日:20190108

    实质审查的生效

  • 2019-04-23

    公开

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