公开/公告号CN108677167B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-03
原文格式PDF
申请/专利权人 沈阳拓荆科技有限公司;
申请/专利号CN201810678394.4
申请日2018-06-27
分类号
代理机构沈阳维特专利商标事务所(普通合伙);
代理人李丹
地址 110179 辽宁省沈阳市浑南区水家900号
入库时间 2022-08-23 11:04:07
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-03
授权
授权
2018-11-13
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/455 申请日:20180627
实质审查的生效
2018-10-19
公开
公开
机译: 化学气相沉积的支持者,能够防止因不均匀加热而生长半导体的物质,一种化学气相沉积设备,以及一种使用化学气相沉积设备的加热方法
机译: 镀膜方法,镀膜设备以及抛光方法,抛光设备以及制造半导体设备的方法
机译: 平板状碱性电池的电极镀膜方法,平板状碱性电池的阳极镀膜方法,平板状碱性电池的阳极镀膜设备,平板状碱性电池的阳极刻蚀装置,阳极平板状电池的阳极表面改性设备,阳极可以清洁平板状碱性电池的设备,以及阳极可以干燥平板状碱性电池的设备