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一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备

         

摘要

本发明中等离子化学气相沉积镀膜方法和设备包括:传统的可抽成真空的炉体;将汽化的、含有金属氯化物的和其它工作气体通入所述真空炉体内的装置;放置在真空炉体中的被镀工件与电极阴极相连,将炉体与阳极相连。阳极接地,阴极施加负电压,将电压升高到一定程度后,阴、阳级之间产生辉光等离子场;在所述炉内设置一个能喷出等离子炬的电弧喷枪。电弧喷枪喷出的等离子炬直接进入到辉光等离子场中。

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