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北京航空航天大学;
等离子化学气相沉积; 镀膜方法; 设备; 等离子场; 电弧喷枪; 等离子炬; 金属氯化物; 真空炉;
机译:一种通过大气压等离子体化学气相沉积(APCVD)和燃烧化学气相沉积(CCVD)创建含银抗菌涂层的方法
机译:通过等离子体增强化学气相沉积,用单一前体1,1,1,3,5,7,7,5-二氧化硅氧烷沉积的低k SicoH薄膜沉积。通过等离子体增强化学气相沉积,含有单次前体1,1,1,3,5,7,7,7八甲基-3,5-双(三甲基硅氧基)四硅氧烷
机译:通过化学气相沉积和等离子增强化学气相沉积方法模拟碳纳米管生长的催化剂成核
机译:膨胀热等离子体化学气相沉积:一种有效的制造自由静态硅纳米晶体的方法
机译:晶格匹配的III-V / IV组半导体异质结构:金属有机化学气相沉积和远程等离子体增强化学气相沉积。
机译:在Nafion负载的电化学沉积钴纳米粒子上进行等离子体增强化学气相沉积产生的金属/碳杂化纳米结构
机译:化学气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积技术形成的碳 - 碳复合材料氧化保护系统。
机译:化学气相沉积的支持者,能够防止因不均匀加热而生长半导体的物质,一种化学气相沉积设备,以及一种使用化学气相沉积设备的加热方法
机译:通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的方法和通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的设备
机译:等离子体化学气相沉积设备的清洁方法,半导体薄膜的形成方法,光电转换元件的制造方法以及等离子体化学气相沉积设备
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