法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-02-14
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2003-06-25
授权
授权
2001-08-15
公开
公开
2001-06-06
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
机译: 通过等离子体辅助化学气相沉积(cvd)进行光学玻璃镀膜的设备
机译: 通过等离子体辅助化学气相沉积(cvd)进行光学玻璃镀膜的设备
机译: 等离子体化学气相沉积设备的清洁方法,半导体薄膜的形成方法,光电转换元件的制造方法以及等离子体化学气相沉积设备