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一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备

摘要

本发明等离子化学气相沉积镀膜方法和设备包括:传统的可抽成真空的炉体;将汽化的、含有金属氯化物的和其它工作气体通入所述真空炉体内的装置;放置在真空炉体中的被镀工件与电极阴极相连,将炉体与阳极相连,阳极接地,阴极施加负电压,将电压升高到一定程度后,阴、阳级之间产生辉光等离子场;在所述炉内设置一个能喷出等离子炬的电弧喷枪,电弧喷枪喷出的等离子炬直接进入到辉光等离子场中。

著录项

  • 公开/公告号CN1112463C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2003-06-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京航空航天大学;

    申请/专利号CN00128293.X

  • 发明设计人 陶冶;

    申请日2000-12-15

  • 分类号C23C16/50;C23C16/503;C23C16/513;

  • 代理机构北京市法苑专利事务所;

  • 代理人陈俊由

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路37号

  • 入库时间 2022-08-23 08:56:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-02-14

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2003-06-25

    授权

    授权

  • 2001-08-15

    公开

    公开

  • 2001-06-06

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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