公开/公告号CN108597648B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-08
原文格式PDF
申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;
申请/专利号CN201810004289.2
发明设计人 郭康;
申请日2018-01-03
分类号H01B5/14(20060101);H01B1/04(20060101);H01B13/00(20060101);
代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人柴亮;张天舒
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2022-08-23 10:57:53
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-08
授权
授权
2018-10-26
实质审查的生效 IPC(主分类):H01B5/14 申请日:20180103
实质审查的生效
2018-09-28
公开
公开
机译: 一种使用光致抗蚀剂掩模通过剥离将导电层图案化到电极的方法,其中导电层未完全涂覆
机译: 能够在图案化过程中防止电极底蚀和绝缘层的液晶显示装置的阵列基板的制造方法
机译: 用于动态随机存取存储器的电容器制造方法,包括通过使用图案作为掩模对导电层进行图案化来形成电容器下电极,使得下电极包括圆柱形或甜甜圈形图案。