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一种GaAs半导体表面欧姆接触电极及其制作方法

摘要

本发明公开了一种GaAs半导体表面欧姆接触电极及其制作方法,首先通过在GaAs半导体表面做接触电极,然后再在石英衬底上依次生成Cu层和Au层,将石英衬底上的Au层与GaAs上接触电极的接触层通过退火粘合封装在一起,然后抛光去除石英衬底,即可得到GaAs欧姆接触电极,通过在石英衬底上以铜层为过渡层,进行金层的制作,克服了金层与石英衬底难键和的问题,完成加厚金层的单独支座,克服了金层通过磁控溅射、真空蒸发方法很难制备出易于键合的微米级厚度的金层的问题,因此将加厚金层单独用电镀的方法来制作,通过本方法制作的GaAs接触电极使得器件可以非常容易地键合到电路中测试使用,器件可以工作在更高的温度,得到更好的器件性能表现。

著录项

  • 公开/公告号CN107369705B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN201710547365.X

  • 申请日2017-07-06

  • 分类号

  • 代理机构西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人陆万寿

  • 地址 710049 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号

  • 入库时间 2022-08-23 10:52:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-17

    授权

    授权

  • 2017-12-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/45 申请日:20170706

    实质审查的生效

  • 2017-12-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/45 申请日:20170706

    实质审查的生效

  • 2017-11-21

    公开

    公开

  • 2017-11-21

    公开

    公开

  • 2017-11-21

    公开

    公开

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