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一种GaN异质结纵向逆导场效应管

摘要

本发明涉及半导体器件技术领域,涉及GaN异质结逆导场效应管。本发明采用纵向分立栅结构,将肖特基源极淀积在栅极之间,形成逆导二极管的阳极。通过P型基区形成的背势垒和P型栅共同作用耗尽栅下方沟道处的二维电子气(2DEG),且可通过调节AlMN势垒层的再生长厚度精确调控阈值电压。本发明的有益效果为,在正向开关工作状态下,具有阈值电压可调,导通电阻低、饱和电流大、关态耐压高、工作频率高和低功耗等优点;在逆导工作状态下,具有开启电压低、导通电阻低,反向耐压大,反向恢复时间短和低功耗等优点。同时其制造工艺与传统GaN异质结HEMT器件兼容。本发明尤其适用于GaN异质结纵向功率场效应管。

著录项

  • 公开/公告号CN107482059B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201710651404.0

  • 发明设计人 周琦;朱若璞;陈万军;张波;

    申请日2017-08-02

  • 分类号H01L29/778(20060101);H01L29/20(20060101);H01L29/06(20060101);

  • 代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人孙一峰

  • 地址 611731 四川省成都市高新西区西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 10:48:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-17

    授权

    授权

  • 2018-01-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/778 申请日:20170802

    实质审查的生效

  • 2018-01-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/778 申请日:20170802

    实质审查的生效

  • 2017-12-15

    公开

    公开

  • 2017-12-15

    公开

    公开

  • 2017-12-15

    公开

    公开

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