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衬底支座、用于在衬底支撑位置上加载衬底的方法、光刻设备和器件制造方法

摘要

一种衬底支座(1),包括:配置用于支撑衬底(W)的衬底支撑位置(4),以及配置用于在衬底支撑位置上夹持衬底的真空夹持装置(7),其中真空夹持装置包括用于产生减压的至少一个减压源(8),连接至该至少一个减压源的至少一个真空区段(9),其中配置至少一个真空区段以朝向衬底支撑位置吸引衬底,以及配置用于沿着至少一个真空区段而控制空间压力分布的控制装置(16),采用控制装置由真空夹持装置吸引衬底,其中控制装置包括用于接收表示待夹持衬底的形状数据的衬底形状数据的衬底形状数据输入端(16a),以及其中配置控制装置以依照衬底形状数据而改变空间压力分布。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-10

    授权

    授权

  • 2017-01-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20150423

    实质审查的生效

  • 2017-01-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150423

    实质审查的生效

  • 2016-12-21

    公开

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  • 2016-12-21

    公开

    公开

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