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薄膜晶体管阵列基板的制作方法及薄膜晶体管阵列基板

摘要

一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法及薄膜晶体管阵列基板,其中的制作方法为:在完成硅薄膜晶体管的部分制程及电容制程后,先形成顶栅结构的氧化物薄膜晶体管,再形成硅薄膜晶体管漏极、硅薄膜晶体管源极、氧化物薄膜晶体管漏极和氧化物薄膜晶体管源极,从而在缓冲层上的第一位置、第二位置及第三位置处形成硅薄膜晶体管、电容与氧化物薄膜晶体管,由于制得的薄膜晶体管阵列基板包括顶栅型的氧化物薄膜晶体管,且硅薄膜晶体管的栅极与源漏极之间间隔多层绝缘层而距离增大,从而有效降低了整体的寄生电容,有利于改善显示器件的高分辨显示效果。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-29

    授权

    授权

  • 2017-08-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/82 申请日:20170320

    实质审查的生效

  • 2017-08-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/82 申请日:20170320

    实质审查的生效

  • 2017-07-07

    公开

    公开

  • 2017-07-07

    公开

    公开

  • 2017-07-07

    公开

    公开

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