抛光垫和系统以及制造和使用此类抛光垫和系统的方法

摘要

本发明涉及包括抛光层的抛光垫，其中所述抛光层包括工作表面和与所述工作表面相背对的第二表面。该工作表面包括多个精确成形孔和多个精确成形微凸体中的至少一者。本公开还涉及一种抛光系统，该抛光系统包括上述抛光垫和抛光液。本公开涉及一种抛光基板的方法，该抛光方法包括：提供根据前述抛光垫中任一种的抛光垫；提供基板，将所述抛光垫的所述工作表面与所述基板表面接触，相对彼此移动所述抛光垫和所述基板，同时保持所述抛光垫的所述工作表面与所述基板表面之间的接触，其中抛光是在抛光液的存在下进行的。