集成电路制造业用高分子聚合物抛光垫专利分析

摘要

借助Questel公司的Orbit专利数据库,对近27年内12 087个与化学机械抛光(CMP)用高分子聚合物抛光垫相关的专利族(其中含有2 918个核心专利族)进行分析,得出此领域全球专利申请量、申请趋势、专利法律状态、专利公开区域、专利权人分布、专利引用状况、专利核心概念、专利地图、IPC(国际专利分类)分布、顶级专利权人技术定位等重要信息.考察了中国内地在该领域的专利情况,为中国集成电路产业全球战略布局提供参考.