首页> 中国专利> 激光退火装置及激光退火工艺

激光退火装置及激光退火工艺

摘要

本发明公开了一种激光退火装置,适用于一激光退火工艺。此激光退火装置包括一激光加工模块、一电阻量测模块以及一主机电路模块。其中激光加工模块系提供一激光束至一非晶硅薄膜,以使其再结晶形成一多晶硅薄膜,而电阻量测模块适于量测多晶硅薄膜的方块电阻,以得到一方块电阻值。此外,主机电路模块根据所测得的方块电阻值对应输出一反馈讯号至激光加工模块,以调整激光束的能量密度至最佳化。此激光退火装置可提供较佳的薄膜品质,并可提高激光退火工艺合格率。

著录项

  • 公开/公告号CN100334704C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-08-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 友达光电股份有限公司;

    申请/专利号CN200410029536.2

  • 发明设计人 曹义昌;吴焕照;林武雄;林文章;

    申请日2004-03-18

  • 分类号

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人王学强

  • 地址 台湾省新竹市新竹科学工业园区新竹市力行二路一号

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-08-29

    授权

    授权

  • 2005-03-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-01-12

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号