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一种脊形圆波导器件的制作方法

摘要

一种脊形圆波导器件的制作方法,属于光通信平面波导器件领域,其目的是实现波导掩埋深度和波导线宽无关、且偏振不敏感的平面光波导制作。本发明步骤为:对制作波导的基底材料整片进行离子交换,然后进行光刻和等离子体刻蚀,使设计的平面波导器件结构复制到基底材料上并形成脊形结构,再进行第二次离子交换,形成掩埋波导,且波导截面呈圆形。本发明不需要薄膜沉积,成本更低,工艺更简单;波导为同质材料,模场呈圆形轴对称结构,光学传输性能表现为偏振不敏感特性,解决了波导掩埋深度随波导线宽的改变而变化的问题,特别适用于制作阵列波导光栅(AWG)型器件,多模干涉(MMI)型器件等波导线宽不规则的器件。

著录项

  • 公开/公告号CN1330986C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-08-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN200410061051.1

  • 发明设计人 周立兵;罗风光;曹明翠;袁菁;

    申请日2004-11-08

  • 分类号G02B6/10(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人方放

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-01-07

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2007-08-08

    授权

    授权

  • 2005-06-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-04-06

    公开

    公开

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