法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-17
授权
授权
2016-08-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/20 申请日:20140924
实质审查的生效
2016-08-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/20 申请日:20140924
实质审查的生效
2016-07-27
公开
公开
2016-07-27
公开
公开
机译: 反应诱导单元和基板处理设备以及薄膜沉积方法
机译: 反应诱导单元和基板处理设备以及薄膜沉积方法
机译: 反应诱导单元,基质处理装置和薄膜沉积方法