双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法

摘要

能够在不移动和不转动工件的情况下，将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准。【解决手段】具有使第一掩膜M1可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第一掩膜台100；以及使第二掩膜M2可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第二掩膜台200，其中，第二掩膜台200能够在第一掩膜台100上除第一掩膜台100之外沿xy平面移动的同时沿xy平面转动，并且,当第一掩膜台100沿xy平面移动和转动时，随第一掩膜台100一同沿xy平面移动和转。