高分辨力数字化微光学灰度掩模制作系统及制作方法

摘要

本发明公开了一种高分辨力数字化微光学灰度掩模制作系统及制作方法，该制作系统包括紫外光源、精缩投影组合透镜、空间滤波器、基片和计算机等，特征是采用由计算机同时控制的两个至三个数字微镜器件组合作为空间光调制器件，实现光强调制细分，实现高分辨力光刻曝光。二次调制结构和叠加调制结构都可以实现高倍数灰阶扩展。因此本发明具有(1)一次可对单个或多个微光学器件一次性面曝光，解决了直写点曝光速度慢的问题；(2)解决了普通图形输出设备分辨率不高的难题；(3)每个像素精缩光点的曝光量不仅仅由曝光时间控制，还可以通过计算机实时数字化调整数字微镜器件像素灰阶控制等优点。