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一种窄条脊形GaAs基激光器的制备方法及GaAs基激光器

摘要

一种窄条脊形GaAs基激光器的制备方法,包括:首先在外延片的表面使用第一块光刻掩膜版光刻出一定宽度的图形光刻胶,其中在外延片表面的特定区域上面光刻出一定的图形刻度,然后使用第二块光刻掩膜版,利用光刻掩膜版特定区域上面的图形刻度和外延片表面一次光刻制备出图形刻度相对应,光刻出符合尺寸要求的图形,最后经过腐蚀、生长电极、减薄、合金、封装等工步形成激光器。采用本发明的方法,一方面可以不使用昂贵的设备就可以实现小尺寸图形的光刻,同时掩模光刻胶还可以作为掩蔽膜进行外延片图形的腐蚀;另外,可以不采用套刻的方式使电流阻挡层覆盖到脊条图形的侧面,有利于发光效率和输出光功率的改善,可有效的提高了激光器的性能。

著录项

  • 公开/公告号CN105576498B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 山东华光光电子股份有限公司;

    申请/专利号CN201610118763.5

  • 发明设计人 王金翠;苏建;徐现刚;

    申请日2016-03-02

  • 分类号H01S5/00(20060101);H01S5/22(20060101);G03F7/20(20060101);H01L21/027(20060101);

  • 代理机构37219 济南金迪知识产权代理有限公司;

  • 代理人吕利敏

  • 地址 250101 山东省济南市高新(历下)区天辰大街1835号

  • 入库时间 2022-08-23 10:17:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-25

    授权

    授权

  • 2016-06-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/00 申请日:20160302

    实质审查的生效

  • 2016-06-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 5/00 申请日:20160302

    实质审查的生效

  • 2016-05-11

    公开

    公开

  • 2016-05-11

    公开

    公开

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